热门搜索： P760/01_2760nm单模垂直腔面发射激光器 VCSEL-20-M激光控制驱动器 ZNSP25.4-1IR抛光硫化锌(ZnS)多光谱(透明)窗片 0.37-13.5um 25.4X1.0mm（晶体/棱镜 HB-C0BFAS0832x4 QPSK C波段相干混频器（信号解调/锁相放大器等） Frequad-W-CW DUV 单频连续激光器 213nm 10mW Frequad-W ER40-6/125截止波长1300nm 高掺杂EDF掺铒光纤 SNA-4-FC-UPC日本精工法兰FC/UPC（连接器/光纤束/光缆） GD5210Y-2-2-TO46905nm 硅雪崩光电二极管 400-1100nm WISTSense Point 紧凑型高精度光纤传感器解调仪（信号解调/锁相放大器等） CO2激光光谱分析仪 1030nm超短脉冲种子激光器PS-PSL-1030 FLEX-BF裸光纤研磨机 高能激光光谱光束组合的光栅 （色散匀化片） NANOFIBER-400-9-SA干涉型单模微纳光纤传感器 1270-2000nm IRV2000-1X350-2000nm 1倍红外观察镜 S+C+L波段 160nm可调谐带通滤波器

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无掩膜数字光刻机 MCML-120A

产品简介

无掩膜数字光刻机 MCML-120A采用数字微镜 (DMD) 的无掩膜扫描式光刻机，365nm波长

直接从数字图形生成光刻图案，免去制作掩模板的中间过程，支持直接读取GDSII和BMP文件

全自动化的对焦和套刻，易于使用

产品型号：
更新时间：2024-12-05
厂商性质：经销商
访问量：2666
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品牌其他品牌价格区间面议
组件类别光学元件应用领域综合
参数见参数表

无掩膜数字光刻机 MCML-120A产品特点

采用数字微镜 (DMD) 的无掩膜扫描式光刻机，365nm波长

直接从数字图形生成光刻图案，免去制作掩模板的中间过程，支持直接读取GDSII和BMP文件

全自动化的对焦和套刻，易于使用

晶圆连续运动配合DMD动态曝光，无拼接问题。全幅面绝对定位精度0.1um

套刻精度： 0.2um

500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm最大幅面（4~6寸晶圆），满幅面曝光时间5~30分钟

500um最小线宽

可灰度曝光（128阶）

尺寸小巧，可配合专用循环装置产生内部洁净空间

无掩膜数字光刻机 MCML-120A

通用参数

应用

微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等试制加工

带有2.5D图案的微光学元件，衍射光器件制作

教学、科研


参数


MCML-110A

MCML-120A

Wavelength 波长

365nm

365nm

Max. frame 最大帧

100mm x 100mm

100mm x 100mm

Resolution 分辨率

1.0um

500nm

Grayscale lithography

灰度光刻

64 levels

128 levels

Max exposure

最大曝光量

500mJ/cm2

2000mJ/cm2

Alignment accuracy

对准精度

<200nm

<100nm

field curvature

场曲率

< 1 um

< 1 um

Speed

速度

5mm2 /sec

2.5mm2 /sec

Input file

输入文件

BMP, GDSII

BMP, GDSII

Z level accuracy

Z级精度

<1 um

<1 um

Environment

环境

20~25℃

20~25℃


样品





（SU8-2002, 2um胶厚，2寸硅基底）




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